Siノズル技術

MEMSを応用したノズル孔形成技術で高い着弾精度と広いメディアギャップを実現

高い着弾精度と広いメディアGapを実現し、モノへのプリントへ適用拡大

ディスプレイ、プリント基板製造工程におけるインクジェット印刷においては特に高精度の着弾性能が求められます。また、インクジェット印刷はチューブや容器など立体物への印刷（Direct to shape、DTS）へも広がっていますが、立体物への印刷では凹凸があるため通常の印刷よりもヘッドと印刷物の距離（メディアGap）を広げる必要があります。従来より当社のインクジェットヘッド（以下、ヘッド）はスリムなヘッド厚みから、DTS用途に広く採用されてきましたが、従来ヘッドに対し高い着弾精度を有するSiノズル技術によって、さらに適用範囲が広がります。

技術概要

Siノズル技術は、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems）と呼ばれる半導体プロセスを応用したSi基板等への立体構造加工技術を用いてヘッドのノズル孔を形成する技術で、従来のポリイミドシートにレーザー加工でノズル孔を形成する技術に対して高い加工精度を実現する事が可能です。ヘッドから吐出されるインク滴の着弾精度はノズル位置の加工精度が高いほど良くなり、インク滴の直進性はノズル孔が真円に近いほど高くなるため、Siノズル技術を適用する事により従来ノズルよりもより高い着弾精度と広いメディアGapを実現する事が出来ます。